本站 8 月 16 日消息，首尔经济日报昨日（8 月 15 日）报道，三星将于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间，安装首台来自 asml 的 high-na euv 光刻机，并预估 2025 年年中投入使用。
三星计划围绕高 High-NA EUV 技术开发一个强大的生态系统：除了收购高 NA EUV 光刻设备外，三星还与日本 Lasertec 公司合作开发专门用于 High-NA 光掩膜的检测设备。
本站援引 DigiTimes 报道，三星已经购买了 Lasertec 的 High-NA EUV 掩膜检测工具 Actis A300。
- 报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作，准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。
- 三星还与新思科技（Synopsys）合作，在光掩膜上从传统的电路设计转向曲线图案。这一转变有望提高电路压印在晶片上的精度，这对进一步完善工艺技术至关重要。
以上就是三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机的详细内容，更多请关注慧达安全导航其它相关文章！
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