本站 9 月 3 日消息，据韩媒 the elec 昨日报道，三星正对 tokyo electron (tel) 的 acrevia gcb 气体团簇光束（本站注：gas cluster beam）系统进行测试。tel 的 acrevia gcb 系统发布于今年 7 月 8 日，可通过气体团簇光束对 euv 光刻图案进行局部精确整形，从而修复图案缺陷、降低图案粗糙度。
此外 Acrevia 系统还可用于消除在 EUV 光刻错误中占约一半的随机错误，提升产品良率。
TEL 相关人士表示潜在客户确实正在进行 Acrevia 系统测试，该设备预计将首先用于逻辑代工而非存储器领域。
此前三星电子已在 4nm 工艺上对应用材料的 Centura Sculpta 进行了测试，如今又测试 TEL 的设备，旨在加强两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争。
以上就是消息称三星电子测试 TEL 公司 Acrevia GCB 设备以改进 EUV 光刻工艺的详细内容，更多请关注慧达安全导航其它相关文章！
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