台积电冲刺先进制程，高雄2nm厂扩建

台积电高雄2nm新厂建设进度领先预期，并计划扩大在高雄的投资。公司计划在前中油高雄炼油厂土地上兴建第三期厂房（P3），同时第四期（P4）和第五期（P5）的环评工作也已启动，并争取扩大开发面积，在P3东侧继续扩建，以延续先进制程的生产能力。根据计划，P3厂房预计将于2026年完工，P4和P5厂房则计划在2027年完工。

业内人士看好台积电此举，认为这表明客户订单持续增长，公司需要增加产能以满足市场需求，并为未来发展提供动力。

台积电在台湾积极布局2nm制程，新竹宝山和高雄新厂两地同步推进，预计于2025年实现量产。高雄厂是台积电在当地首座12英寸晶圆厂，最初计划采用成熟制程，但在2023年8月董事会决定将其扩展至2nm制程。设备进场时间也从原计划的2025年第三季度提前至11月底，提前了半年以上。

高雄厂的建设进展顺利，P3厂房的建设计划已启动。然而，鉴于全球半导体产业的剧烈变化和国际竞争的加剧，为确保全球产业布局和持续运营的需求，台积电决定在P3厂房旁启动P4和P5厂房的扩建计划，以发挥产能集群效应。

环评数据显示，台积电正在争取扩大P4和P5厂房的开发面积。最初规划面积约为41公顷，最新方案已增至约43公顷。加上之前申请的P3厂房面积，总基地面积将达到约60公顷。台积电将于12月26日召开“原中油公司高雄炼油厂土地新建半导体厂扩建计划”环境影响说明书公开会议，正式对外说明相关计划。

台积电在高雄一期园区已启动P1和P2厂房的建设，今年启动P3扩建计划。由于扩建用地需求迫切，公司决定在P3厂房旁继续启动P4和P5厂房的扩建计划。

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